Máquina para revestimento de vidro Low E/ vidro baixo emissivo
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A linha de revestimento horizontal de vidro low-E ou seja, vidro com baixa emissividade utiliza tecnologia de pulverização magnetrônica para depositar uma película metálica uniforme e de alta qualidade em superfícies de vidro. Isso permite a produção de vidro Low-E, filme AR e vidro de controle solar. O vidro Low-E é projetado para bloquear certos raios ultravioletas de passar através do vidro, que é perfeito para aquecimento arquitetônico e refrigeração.
Dados técnicos
- Tamanho do substrato: Máx. 3300 × 6000mm (customizável)
- Espessura do substrato: 3-19mm (customizável)
- Tempo de ciclo: > 30s
- Vácuo final: < 2E-6mbar
Características técnicas
- A câmara de pulverização é constituída por uma série de compartimentos de 795mm.
- A bomba da máquina de revestimento está equipada com um dispositivo único de isolamento de gás.
- O suporte estrutural do íman ajustável é construído a partir de um perfil de alumínio.
- 5 a 9 estágios de processos auxiliares são projetados para o sistema de distribuição de gás, e cada estágio pode trabalhar com diferentes tipos de gás.
- É controlado pelo servo motor para conseguir o controle de alta precisão da transmissão.
- Reduzimos constantemente o volume de entrada/saída da câmara para melhorar o tempo do ciclo e reduzir o custo.
- O sistema de distribuição de gás é integrado com a tampa do cátodo.
- Cada unidade de cátodo está equipada com um sistema de controle independente
- As câmaras dianteira e traseira são projetadas com uma cobertura integral para alcançar ações mecânicas e hidráulicas de elevação.
- A área de revestimento adota uma bomba molecular de levitação magnética e bomba seca.
Parâmetros técnicos
| Substrato | Vidro flutuante, vidro temperado, vidro laminado, etc. | |
| Tamanho do substrato | Máx. 2540 × 3660mm (customizável) | Máx. 3300 × 6000mm (customizável) |
| Espessura do substrato | 3-19mm (customizável) | |
| Tempo de ciclo | > 20s | > 30s |
| Vácuo final | < 2E-6mbar | |
| Tempo de execução efetivo | > 95% | |
| Uniformidade do filme | ≤ ± 1.0% | |
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